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              當(dāng)前位置:材料測試 ?  成分分析 ? 

              輝光放電質(zhì)譜儀(GD-MS)

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              輝光放電質(zhì)譜儀(GD-MS)

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              項(xiàng)目介紹

              輝光放電質(zhì)譜(glow discharge mass spectrometry),簡稱GDMS,是利用輝光放電源作為離子源與質(zhì)譜儀聯(lián)接進(jìn)行質(zhì)譜測定的一種分析方法。

              將輝光放電離子源和高分辨率質(zhì)譜儀結(jié)合,主要應(yīng)用于高純度無機(jī)固體材料的成分分析,可以一次掃描即可測量從鋰(Li)到鈾(U)之間所有元素成分。

              樣品要求

              1. 固體:塊狀最小尺寸不小于3 x 3 mm,最大不超過50 x 50 x 50mm,建議為25 x 25 x 5mm或相近尺寸;表面平整光滑,相當(dāng)于用1000目的砂紙磨過的平整度;

              2. 粉末:需根據(jù)具體樣品判斷用量,樣品盡量多(10g),粒度盡量小,能壓制成片狀,且滿足塊體樣品的尺寸要求;

              3. 針狀樣品:2mm x 2mm x 22mm的針狀樣品;

              4. 樣品純度最好是3N~8N之間;

              5. GD-MS是一種微型破壞性測試,濺射直徑8mm,;

              6. 濺射深度一般為幾微米到幾十微米,納米級薄膜材料測試有風(fēng)險(xiǎn)。

              項(xiàng)目案例

              GD-OES濺射深度譜

              GD-MS元素分析

              常見問題
              1、材料的純度要求是多少?

              最高可以測試到8N,純度過低(例如2N)數(shù)據(jù)會相對不準(zhǔn)確,純度超過8N,所有數(shù)據(jù)結(jié)果以檢出限形式體現(xiàn)。  相對適合的純度測試范圍是2N-8N。

              2、濺射直徑是多大?

              GD-MS是一種微型破壞性測試,濺射直徑8mm。

              3、可以檢測的深度可以達(dá)到多大?

              濺射深度與測試參數(shù)、時(shí)間相關(guān),一般為幾微米到幾十微米。 幾百nm的薄膜需要看是什么材料,不一定能測。

              4、檢測的元素范圍是Li-U嗎?是半定量分析嗎?

              是的,全元素一共74種元素,不包括惰性元素、CNOH氣體元素、放射性元素等不穩(wěn)定元素。輝光放電質(zhì)譜:可得到元素半定量數(shù)據(jù)

              輝光放電質(zhì)譜儀(GD-MS)

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