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                聚焦離子束(FIB)

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                聚焦離子束(FIB)

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                如有各類設備采購需求,請聯系專屬顧問。

                王飛

                FIB測試工程師

                擁有8年掃描電鏡測試經驗。擅長聚焦離子束(FIB)技術,精于利用FIB進行高精度材料切割、表面刻蝕及納米級樣品制備。

                項目介紹

                聚焦離子束(focused ion beam, FIB)技術是在電場和磁場的作用下,將離子束聚焦到亞微米甚至納米量級,通過偏轉和加速系統控制離子束掃描運動,實現微納圖形的監測分析和微納結構的無掩模加工。

                可提供的服務:

                1. TEM透射樣品制備:針對表面薄膜、涂層、粉末大顆粒、塊體等樣品,在指定位置準確定位切割制備TEM樣品;

                2. SEM/EDS剖面分析:FIB準確定位切割,制備截面樣品,進行SEM和EDS能譜分析;

                3. 微納結構加工:在微納結構操作機械手、Omniprobe操作探針、離子束切割等的配合下,進行各種微納結構的搬運,以及各種顯微結構形狀或圖案的加工。

                樣品要求

                1. 粉末樣品:樣品尺寸至少為5μm以上,且無磁性;

                2. 薄膜/塊體樣品:最大尺寸不超過2cm,高度不超過3mm,可以有磁性,但強磁樣品應盡可能減小尺寸;

                3. 在送樣前,請通過掃描電子顯微鏡(SEM)確認樣品滿足FIB制樣的要求;

                4. 按照樣品個數計費加工成品大小一般不超過長度 5μm*深度 5μm;如果樣品需要加工更大尺寸,請在下單前聯系技術經理進行評估和議價

                5. 樣品應具有良好的導電性,如果導電性比較差,需要進行噴金或噴碳處理。

                項目案例

                TEM制備多相和薄膜的TEM樣品

                電池正極材料的FIB截面的SEM及能譜表征

                FIB加工測試狗logo

                FIB三維重構圖像

                常見問題
                1、FIB可以做什么?

                (1)FIB-SEM:FIB制備微納米級樣品截面,進行SEM和能譜測試。感興趣區域尺度要求200nm-30μm,通常切樣面寬度不超過10μm。

                (2)FIB-TEM:FIB制備滿足透射電鏡的 TEM截面樣品。樣品包括:薄膜、塊體樣品,微米級顆粒。樣品種類:陶瓷、金屬等。

                2、FIB制樣可能引入的雜質?

                W、C、Pt和Ga,其中W、C和Pt是為了保護減薄區域,Ga是離子源。如果樣品不導電可能噴Au或者噴Pt,從而引入這兩種元素。

                3、FIB樣品為什么需要導電?

                樣品是在SEM電鏡下進行操作,需要清晰地觀察到樣品的形貌,否則無法精準制樣。

                4、FIB-TEM的制樣流程是 ?

                (1)找到目標位置(定位非常重要),表面噴Pt、W或C進行保護目標區域; 

                (2)將目標位置前后兩側的樣品挖空,剩下目標區域后進行U-cut;

                (3)通過納米機械手將這個薄片取出,將樣品焊到銅網上的樣品柱上;

                (4)減薄到理想厚度后停止。

                聚焦離子束(FIB)

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