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              當前位置：材料測試 ?  材料加工 ? 
              
                
              氬離子拋光（離子研磨CP）
              
            
              
            
              
                
              
                    
              
                        
              
                            
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              氬離子拋光（離子研磨CP）
              
                                
                                
              
                                    
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              服務周期：
              
                                    
              平均15個工作日完成
              
                                
              
                                                                

                                                                
              
                                                                                                                        
              
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              如有各類設備采購需求，請聯系專屬顧問。
              
                            
              
                        
              

                        
                        
                        
                        
                        
                        
                        
                    
              

                    
                    
                    
                    

                    
              
                        
              項目介紹
              
                        
              氬離子拋光技術/離子研磨CP（Cross section Polisher）用于SEM、EPMA、EBSD等樣品的制備。
              依靠離子束轟擊制備樣品剖面，可以獲得表面平滑的樣品，觀察范圍大、清潔而且適用于幾乎所有材料，而不會對樣品造成機械損害。
              去除損傷層，從而得到高質量樣品。
              
                    
              
                    
              
                        
              樣品要求
              
                        
              1.送樣前需要對樣品進行預處理：樣品預磨拋，樣品要磨平，樣品的上下表面要平行，樣品拋光面至少用4000目砂紙磨平，在顯微鏡下看起來光滑，不粗糙;
              2. 送測樣品的尺寸要求:塊狀樣品：以待拋光區域為中心點，樣品直徑不超過30mm、厚度0~20mm。（超出部分需要磨平）粉末樣品：10g以上;
              3. 樣品準備2-3片；
              4. 預約時認真填寫樣品信息以及測試目的，必要時上傳參考圖片或文件。
              
                    
              
                    
              
                            
              項目案例
              
                            
              
                                
              
                                                                    
              
                            
              
                        
                                  
              
                            
              常見問題
              
                            
              
                                
              
                                        
              1、通常塊狀金屬和陶瓷除FIB制樣外，還可以用什么方法制備TEM樣品？
              
                                        
              可以采用離子減薄或者電解雙噴制樣。
              
                                    
              
                                        
              2、離子減薄方法適用于哪種樣品？
              
                                        
              1.不導電的陶瓷樣品；
              2.要求質量高的金屬樣品；
              3.不宜雙噴電解的金屬與合金樣品。
              
                                    
              
                                        
              3、雙噴電解減薄適用于哪些樣品？
              
                                        
              1.不易于腐蝕的裂紋端試樣；
              2.非粉末冶金試樣；
              3.組織中各相電解性能相差不大的材料。
              
                                    
              
                                        
              4、離子減薄容易引入的雜質？
              
                                        
              很可能引入Ar，Ar離子作為制樣的離子源。
              
                                    
              
                                        
              5、電解雙噴制樣可能引入的雜質？
              
                                        
              溶液可能引入對應的元素，如高氯酸溶液引入Cl。
              
                                    
                                          
              
                        
                                                  
              
                
            
              
        
              
        
        
              
            
              
                
              
                    
              氬離子拋光（離子研磨CP）
              
                                                                        
              
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