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    熒光光譜（PL）

    熒光光譜（PL）

    已預(yù)約12503次

    平均周期7天  |  總體滿意度99.6%

    立即預(yù)約

     振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)（VSM）

    振動(dòng)樣品磁強(qiáng)計(jì)（VSM）

    已預(yù)約6983次

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     微波網(wǎng)絡(luò)分析儀/矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀（VNA）

    微波網(wǎng)絡(luò)分析儀/矢量網(wǎng)絡(luò)分析儀（VNA）

    已預(yù)約7273次

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     電化學(xué)分析

    電化學(xué)分析

    已預(yù)約5497次

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     超導(dǎo)量子干涉磁測(cè)量(SQUID)

    超導(dǎo)量子干涉磁測(cè)量(SQUID)

    已預(yù)約5414次

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     四探針測(cè)試儀

    四探針測(cè)試儀

    已預(yù)約4588次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     固體/薄膜表面ZETA電位儀

    固體/薄膜表面ZETA電位儀

    已預(yù)約3884次

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    立即預(yù)約

     霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

    霍爾效應(yīng)測(cè)試系統(tǒng)

    已預(yù)約4967次

    平均周期5.2天  |  總體滿意度99%

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     電導(dǎo)率

    電導(dǎo)率

    已預(yù)約4640次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     寬頻介電常數(shù)測(cè)試儀

    寬頻介電常數(shù)測(cè)試儀

    已預(yù)約3276次

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     橢偏儀

    橢偏儀

    已預(yù)約3466次

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     飛秒瞬態(tài)吸收（fs-TAS）

    飛秒瞬態(tài)吸收（fs-TAS）

    已預(yù)約3626次

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     表面光電壓譜儀（SPV）

    表面光電壓譜儀（SPV）

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     塞貝克系數(shù)與電阻率測(cè)試系統(tǒng)

    塞貝克系數(shù)與電阻率測(cè)試系統(tǒng)

    已預(yù)約2466次

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     物性綜合測(cè)量系統(tǒng)（PPMS）

    物性綜合測(cè)量系統(tǒng)（PPMS）

    已預(yù)約1973次

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     鐵電壓電分析儀

    鐵電壓電分析儀

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     光催化產(chǎn)氫

    光催化產(chǎn)氫

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     變溫?zé)晒夤庾V（PL）

    變溫?zé)晒夤庾V（PL）

    已預(yù)約3515次

    平均周期9天  |  總體滿意度99%

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     D33測(cè)試(壓電常數(shù)測(cè)試)

    D33測(cè)試(壓電常數(shù)測(cè)試)

    已預(yù)約2237次

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     多功能缺陷熒光光譜儀

    多功能缺陷熒光光譜儀

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     電阻率測(cè)試儀

    電阻率測(cè)試儀

    已預(yù)約1756次

    平均周期4天  |  總體滿意度99%

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     光催化二氧化碳還原

    光催化二氧化碳還原

    已預(yù)約1933次

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     阻抗分析儀

    阻抗分析儀

    已預(yù)約1834次

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     電池性能測(cè)試

    電池性能測(cè)試

    已預(yù)約2248次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

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     外量子效率（IPCE/EQE）

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    已預(yù)約1474次

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     殘余應(yīng)力

    殘余應(yīng)力

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     半導(dǎo)體光電測(cè)試

    半導(dǎo)體光電測(cè)試

    已預(yù)約2383次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     擊穿電壓試驗(yàn)儀

    擊穿電壓試驗(yàn)儀

    已預(yù)約1319次

    平均周期5天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     強(qiáng)度調(diào)制光電流譜（IMPS）

    強(qiáng)度調(diào)制光電流譜（IMPS）

    已預(yù)約2678次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     熱刺激電流儀（TSC）

    熱刺激電流儀（TSC）

    已預(yù)約1588次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     聲學(xué)性能測(cè)試系統(tǒng)（阻抗管）

    聲學(xué)性能測(cè)試系統(tǒng)（阻抗管）

    已預(yù)約1132次

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    立即預(yù)約

     掃描電化學(xué)顯微鏡（SECM）

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    已預(yù)約22次

    平均周期8天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     磁致伸縮系數(shù)測(cè)量系統(tǒng)

    磁致伸縮系數(shù)測(cè)量系統(tǒng)

    已預(yù)約1068次

    平均周期7天  |  總體滿意度98%

    立即預(yù)約

     固態(tài)電解質(zhì)分析系統(tǒng)

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    已預(yù)約10次

    平均周期13天  |  總體滿意度99%

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     飛秒瞬態(tài)吸收數(shù)據(jù)分析

    飛秒瞬態(tài)吸收數(shù)據(jù)分析

    已預(yù)約3466次

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     輻照測(cè)試（鈷60）

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     微波暗室遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)

    微波暗室遠(yuǎn)場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)

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     太陽(yáng)能電池伏安特性測(cè)試儀

    太陽(yáng)能電池伏安特性測(cè)試儀

    已預(yù)約1186次

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     OLED光電測(cè)試系統(tǒng)

    OLED光電測(cè)試系統(tǒng)

    已預(yù)約755次

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    立即預(yù)約

     電致發(fā)光光譜（EL）

    電致發(fā)光光譜（EL）

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    平均周期7天  |  總體滿意度99.6%

    立即預(yù)約

     飛灰比電阻測(cè)定儀

    飛灰比電阻測(cè)定儀

    已預(yù)約1665次

    平均周期5天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     拉伸/壓縮/彎曲-電阻率測(cè)試儀

    拉伸/壓縮/彎曲-電阻率測(cè)試儀

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     微波諧振腔

    微波諧振腔

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    平均周期7天  |  總體滿意度98%

    立即預(yù)約

     強(qiáng)度調(diào)制光電壓譜（IMVS）

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    已預(yù)約2571次

    平均周期7天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     絕緣電阻測(cè)試儀

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    已預(yù)約1710次

    平均周期4天  |  總體滿意度99%

    立即預(yù)約

     顯微應(yīng)變測(cè)試

    顯微應(yīng)變測(cè)試

    已預(yù)約49次

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     矯頑磁力自動(dòng)測(cè)量?jī)x

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     微波暗室拱形架測(cè)試系統(tǒng)

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    平均周期8天  |  總體滿意度97%

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     時(shí)間分辨紅外光譜（TRIR）

    時(shí)間分辨紅外光譜（TRIR）

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     BH LOOP分析儀

    BH LOOP分析儀

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     深能級(jí)瞬態(tài)譜（DLTS）

    深能級(jí)瞬態(tài)譜（DLTS）

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     平面近場(chǎng)測(cè)試系統(tǒng)

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    立即預(yù)約

     光學(xué)應(yīng)變測(cè)試系統(tǒng)

    光學(xué)應(yīng)變測(cè)試系統(tǒng)

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     納米離子探針（Nano-SIMS）

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     分子尺度電導(dǎo)測(cè)試系統(tǒng)

    分子尺度電導(dǎo)測(cè)試系統(tǒng)

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     自由曲面光學(xué)面形測(cè)試儀（NMF600S）

    自由曲面光學(xué)面形測(cè)試儀（NMF600S）

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    常見問題

    Q&A

    Q：到底是發(fā)論文還是申請(qǐng)專利？
    A：論文和專利都是技術(shù)的載體，論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確，發(fā)明專利會(huì)經(jīng)過新穎性或創(chuàng)造性的審查，授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù)，自己在先公開的論文會(huì)導(dǎo)致在后申請(qǐng)的專利失去新穎性或創(chuàng)造性，對(duì)于同一方案務(wù)必先申請(qǐng)專利再發(fā)表論文。
    Q：專利申請(qǐng)為什么要趁早？
    A：1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮，慢一步就會(huì)導(dǎo)致他人先公開自己的創(chuàng)意而無法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評(píng)獎(jiǎng)、職稱考核、高企認(rèn)定等過程中添加砝碼，競(jìng)爭(zhēng)激烈，提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
    Q：哪些不能申請(qǐng)專利？
    A：1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動(dòng)物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對(duì)平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識(shí)作用的設(shè)計(jì)。
    Q：發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別？
    A：1.保護(hù)客體不同，發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案，實(shí)用新型專利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同，發(fā)明專利需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性，審查時(shí)間更長(zhǎng)，實(shí)用新型不需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查，創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低，但實(shí)用價(jià)值大。3.保護(hù)期限不同，發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年，實(shí)用新型專利權(quán)的期限為十年，外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的期限為十五年，均自申請(qǐng)日起計(jì)算。
    Q：什么是技術(shù)交底書？
    A：技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ)，應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問題是什么，發(fā)明人提出了什么樣的解決方案，達(dá)到了何種效果，以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么，應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容，充分描述技術(shù)細(xì)節(jié)，提供有力的證明材料，如此才能撰寫更高質(zhì)量的專利。
    Q：如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)？
    A：1.優(yōu)先審查，涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域，可以申請(qǐng)優(yōu)先審查，最快可在6-8個(gè)月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過保護(hù)中心的預(yù)審加快審查，進(jìn)入快速審查通道，可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時(shí)間。
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