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              X射線光電子能譜(XPS)

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              X射線光電子能譜(XPS)

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              馬騁

              XRD、UPS、XPS、DLS、GIXRD、2D-WAXD、AFM-IR測試工程師

              具有多年XPS、DLS等操作經驗。精通XPS技術在材料表征上的應用,尤其在催化、電池材料的峰形處理方面具有豐富經驗和實操技能。同時,在DLS樣品制備和濃度效應分析上有獨到的理解和實踐經驗。

              項目介紹

              X射線光電子能譜法是一種表面分析方法,提供的是樣品表面的元素含量與形態。

              如果輔以離子刻蝕手段,再利用XPS作為分析方法,則可以實現對樣品的深度分析。

              一、XPS的特點

              1. 可以分析除 H 和 He 以外的所有元素

              2. 提供有關化學鍵方面的信息,即直接測量價層電子及內層電子軌道能級;

              3. 是一種高靈敏超微量的表面分析技術,分析所需試樣量極少,樣品分析深度為0.5-10nm

              二、XPS的應用

              1. 元素定性分析

              2. 元素半定量分折

              3. 固體表面分析

              4. 化合物結構鑒定

              樣品要求

              1. 預處理尺寸要求:塊體/片狀/薄膜:長寬厚不超出1 × 1 × 0.3 cm(磁性樣品盡量小)(對塊狀樣品或薄膜樣品的測試面做好標記);粉末樣品大于200目,不少于10mg,量少的請用稱量紙包好再裝到管子里寄。請勿用手觸摸樣品表面,會引入污染;制好樣后請盡快密封,避免其他物質污染;

              2. 送樣前樣品需充分干燥,否則影響儀器真空度;高分子樣品在送樣前應進行干燥處理;若含有高揮發性分子等,請務必烘烤;

              3. 樣品含有硫或碘等鹵族元素請務必填寫或者提前告知,避免污染高真空系統;

              4. 樣品在超高真空及在X射線、紫外線、電子束或Ar離子束照射下應穩定,不分解、不釋放氣體。

              項目案例

              XPS全譜

              XPS 精細譜

              XPS深度剖析

              XPSmapping成像

              常見問題
              1、Mg靶與Al靶的區別?什么時候需要用Mg靶測試?

              能量不同,分辨率不同,Mg靶分辨率高,Al靶能量高。通常使用Al靶測試即可,若遇到重疊譜峰的情況,如在利用Al 靶測試Fe、Co和Ni同時存在的樣品時受俄歇峰影響嚴重,通常換用Mg靶來移動俄歇峰,以消除干擾。

              2、XPS可以測哪些元素?

              可以測試除H和He以外的所有元素。

              3、XPS表征的是樣品的表面還是體相?

              表面10nm以內。

              4、XPS中,測價帶譜的作用是什么?

              計算價帶位置,及能帶中電子態密度隨能量的分布。

              5、XPS測試分析價態的位置和參考文獻不一致怎么辦?

              1.先確定分析數據前數據是否校準;

              2.校準的方式和數據是否和文獻一致;

              3.每個設備都有分辨率,XPS用鋁靶的能量分辨率是在小于等于0.5eV范圍,如果參考值在正負0.5eV之間變動,可認為沒有什么區別;

              4.確定自己的化學價態是否在這個范圍內,一個化學價態是對應一個結合能范圍。

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