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                當前位置：材料測試 ?  材料加工 ? 
                
                
                RIE反應離子刻蝕
                
            
                
            
                
                
                
                    
                
                        
                
                            
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                滿意度
                
                            
                

                                                            
                
                                    
                                
                


                            
                
                                
                RIE反應離子刻蝕
                
                                
                                
                
                                    
                已 預 約：
                
                                    
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                服務周期：
                
                                    
                平均10個工作日完成
                
                                
                
                                                                

                                                                
                
                                                                                                                        
                
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                如有各類設備采購需求，請聯系專屬顧問。
                
                            
                
                        
                

                        
                        
                        
                        
                        
                        
                        
                    
                

                    
                    
                    
                    

                    
                
                        
                項目介紹
                
                        
                RIE反應離子腐蝕技術是一種各向異性很強、選擇性高的干法腐蝕技術。
                它是在真空系統中利用分子氣體等離子來進行刻蝕的，利用了離子誘導化學反應來實現各向異性刻蝕，即是利用離子能量來使被刻蝕層的表面形成容易刻蝕的損傷層和促進化學反應，
                同時離子還可清除表面生成物以露出清潔的刻蝕表面的作用。
                主要用于Si、SiO2、SiNx、半導體材料、聚合物、金屬的刻蝕以及光刻膠的去除等，廣泛應用于物理，生物，化學，材料，電子等領域。
                
                    
                
                    
                
                        
                樣品要求
                
                        
                1.樣品載物臺最大可放置 8 寸硅片；小樣品只要可放在載物臺亦可；
                2.樣品可以是多晶硅柵電極，石英材料，鍺材料等；
                3.若需進一步溝通，請聯系技術老師。
                
                    
                
                    
                
                            
                項目案例
                
                            
                
                                
                                
                                


                                                                    
                            
                
                        
                                                                        
                
                
            
                
        
                
        
        
                
            
                
                
                
                    
                RIE反應離子刻蝕
                
                                                                        
                
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                你好，很高興為您服務！
                
                
            
                
        
                
    
                

    
    
                
        
        
                
            
                
            
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