預(yù)存
              測(cè)試狗七周年盛會(huì)
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              原位電化學(xué)測(cè)試 原位變溫/氣氛/光照測(cè)試 原位力學(xué)測(cè)試
              原位紅外(in-situ IR)

              原位紅外(in-situ IR)

              已預(yù)約9026次

              平均周期10天  |  總體滿意度99.3%

              立即預(yù)約

              原位XRD

              原位XRD

              已預(yù)約5787次

              平均周期11天  |  總體滿意度99.6%

              立即預(yù)約

              原位XPS(In-Situ XPS)

              原位XPS(In-Situ XPS)

              已預(yù)約6357次

              平均周期11天  |  總體滿意度99%

              立即預(yù)約

              原位拉曼

              原位拉曼

              已預(yù)約558次

              平均周期5天  |  總體滿意度99%

              立即預(yù)約

              原位透射電鏡(in-situ TEM)

              原位透射電鏡(in-situ TEM)

              已預(yù)約3089次

              平均周期20天  |  總體滿意度99%

              立即預(yù)約

              原位掃描電子顯微鏡(in-situ-SEM)

              原位掃描電子顯微鏡(in-situ-SEM)

              已預(yù)約1998次

              平均周期7天  |  總體滿意度99%

              立即預(yù)約

              原位AFM

              原位AFM

              已預(yù)約213次

              平均周期7天  |  總體滿意度99%

              立即預(yù)約

              同步輻射原位表征測(cè)試

              同步輻射原位表征測(cè)試

              已預(yù)約3723次

              平均周期30天  |  總體滿意度99%

              立即預(yù)約

              原位斷層光譜

              原位斷層光譜

              已預(yù)約1438次

              平均周期10天  |  總體滿意度99%

              立即預(yù)約

              原位動(dòng)態(tài)吸收光譜

              原位動(dòng)態(tài)吸收光譜

              已預(yù)約1563次

              平均周期20天  |  總體滿意度98%

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              常見問題

              Q&A

              Q:到底是發(fā)論文還是申請(qǐng)專利?
              A:論文和專利都是技術(shù)的載體,論文審稿側(cè)重考察數(shù)據(jù)是否可靠、結(jié)論是否準(zhǔn)確,發(fā)明專利會(huì)經(jīng)過新穎性或創(chuàng)造性的審查,授權(quán)后獲得獨(dú)占權(quán)而受到法律保護(hù),自己在先公開的論文會(huì)導(dǎo)致在后申請(qǐng)的專利失去新穎性或創(chuàng)造性,對(duì)于同一方案務(wù)必先申請(qǐng)專利再發(fā)表論文。
              Q:專利申請(qǐng)為什么要趁早?
              A:1.要防止創(chuàng)意或產(chǎn)品推出前被模仿。2.相關(guān)技術(shù)更新迭代、層出不窮,慢一步就會(huì)導(dǎo)致他人先公開自己的創(chuàng)意而無法獲得專利權(quán)。3.專利可以在升學(xué)評(píng)獎(jiǎng)、職稱考核、高企認(rèn)定等過程中添加砝碼,競(jìng)爭(zhēng)激烈,提早準(zhǔn)備更容易命中目標(biāo)。
              Q:哪些不能申請(qǐng)專利?
              A:1. 科學(xué)發(fā)現(xiàn);3. 疾病的診斷和治療方法;4. 動(dòng)物和植物品種;5. 用原子核變換方法獲得的物質(zhì);6. 對(duì)平面印刷品的圖案、色彩或者二者的結(jié)合作出的主要起標(biāo)識(shí)作用的設(shè)計(jì)。
              Q:發(fā)明和實(shí)用新型有何區(qū)別?
              A:1.保護(hù)客體不同,發(fā)明專利保護(hù)產(chǎn)品、方法或者改進(jìn)所提出的新的技術(shù)方案,實(shí)用新型專利只保護(hù)產(chǎn)品的形狀、構(gòu)造或者其結(jié)合所提出的適于實(shí)用的新的技術(shù)方案。2.審批程序不同,發(fā)明專利需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查以確定滿足新穎性、創(chuàng)造性和實(shí)用性,審查時(shí)間更長(zhǎng),實(shí)用新型不需要經(jīng)過實(shí)質(zhì)審查,創(chuàng)造性和技術(shù)水平較發(fā)明專利低,但實(shí)用價(jià)值大。3.保護(hù)期限不同,發(fā)明專利權(quán)的期限為二十年,實(shí)用新型專利權(quán)的期限為十年,外觀設(shè)計(jì)專利權(quán)的期限為十五年,均自申請(qǐng)日起計(jì)算。
              Q:什么是技術(shù)交底書?
              A:技術(shù)交底書是發(fā)明人和代理師溝通的基礎(chǔ),應(yīng)當(dāng)涵蓋現(xiàn)有技術(shù)的問題是什么,發(fā)明人提出了什么樣的解決方案,達(dá)到了何種效果,以及希望保護(hù)的核心技術(shù)要點(diǎn)是什么,應(yīng)當(dāng)盡可能記錄技術(shù)內(nèi)容,充分描述技術(shù)細(xì)節(jié),提供有力的證明材料,如此才能撰寫更高質(zhì)量的專利。
              Q:如何才能更快獲得發(fā)明專利授權(quán)?
              A:1.優(yōu)先審查,涉及特定的高端制造、節(jié)能環(huán)保、新材料、新能源等特殊領(lǐng)域,可以申請(qǐng)優(yōu)先審查,最快可在6-8個(gè)月獲得發(fā)明專利授權(quán)。2.通過保護(hù)中心的預(yù)審加快審查,進(jìn)入快速審查通道,可進(jìn)一步壓縮授權(quán)時(shí)間。
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