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              紫外光刻機

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              紫外光刻機

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              如有各類設備采購需求,請聯系專屬顧問。
              項目介紹

              工作原理:將設計的掩模圖形通過光刻機曝光轉移到涂有光刻膠的晶片上。

              樣品要求

              1.紫外光波長:365nm,曝光能量密度18-20mW/cm2可調

              2. 樣品尺寸:6英寸及以下

              3. 分辨率:接觸曝光<0.5μm,接近式曝光≤1μm

              4.對準精度:<1μm

              項目案例

              紫外光刻機

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