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                當前位置：材料測試 ?  材料加工 ? 
                
                
                原子層沉積技術(ALD)
                
            
                
            
                
                
                
                    
                
                        
                
                            
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                原子層沉積技術(ALD)
                
                                
                                
                
                                    
                已 預 約：
                
                                    
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                服務周期：
                
                                    
                平均7個工作日完成
                
                                
                
                                                                

                                                                
                
                                                                                                                        
                
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                如有各類設備采購需求，請聯系專屬顧問。
                
                            
                
                        
                

                        
                        
                        
                        
                        
                        
                        
                    
                

                    
                    
                    
                    

                    
                
                        
                項目介紹
                
                        
                原子層沉積 ( ALD)是一種基于化學氣相沉積 (CVD) 的高精度薄膜沉積技術，是將物質材料以單原子膜的形式基于化學氣相一層一層的沉積在襯底表面的技術。將兩種或更多種前體化學品分別包含被沉積材料的不同元素，一次一種地分別引入到襯底表面。每個前體使表面飽和，形成單層材料。
                
                    
                
                    
                
                        
                樣品要求
                
                        
                樣品尺寸：沉積面積為8英寸以下
                
                    
                
                    
                
                            
                項目案例
                
                            
                
                                
                                
                                


                                                                    
                            
                
                        
                                    
                
                            
                常見問題
                
                            
                
                                
                
                                        
                1、什么是原子層沉積（ALD）？
                
                                        
                原子層沉積 (Atomic Layer Deposition, ALD)是一種基于化學氣相沉積 (CVD) 的高精度薄膜沉積技術，是將物質材料以單原子膜的形式基于化學氣相一層一層的沉積在襯底表面的技術。將兩種或更多種前體化學品分別包含被沉積材料的不同元素，一次一種地分別引入到襯底表面。每個前體使表面飽和，形成單層材料。
                
                                    
                                            
                
                        
                                                    
                
                
            
                
        
                
        
        
                
            
                
                
                
                    
                原子層沉積技術(ALD)
                
                                                                        
                
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                你好，很高興為您服務！
                
                
            
                
        
                
    
                

    
    
                
        
        
                
            
                
            
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