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TC4鈦合金表面電沉積Co-W/MoS2復合鍍層及摩擦磨損性能研究

來源：時間：2024-03-11 13:48:35 瀏覽：3732次

摘要

為了有效改善TC4鈦合金的摩擦磨損性能，在TC4鈦合金表面電沉積摻雜自潤滑MoS₂顆粒的Co-W/MoS₂復合鍍層。研究了鍍液中的MoS₂顆粒濃度對復合鍍層的物相結構、結合強度、微觀形貌、成分及摩擦磨損性能的影響。結果表明：添加2.5 g/L MoS₂顆粒制備的復合鍍層與鈦合金基體結合緊密，晶粒呈長條狀與團簇胞狀，主要物相為fcc-Co、hcp-Co和Co₃W，其中MoS₂顆粒含量接近3%。該復合鍍層穩(wěn)定狀態(tài)時摩擦系數(shù)僅為0.34，并且磨損率最低，僅為9.50×10^-4 mm²/N，表現(xiàn)出優(yōu)異的耐磨性能，能有效改善TC4鈦合金的摩擦磨損性能。MoS₂顆粒參與共沉積可能影響結晶形核過程，還會摻雜在Co晶格間隙引起晶格畸變，有利于提高復合鍍層致密度，從而改善復合鍍層性能。包覆在復合鍍層中的MoS₂顆粒在摩擦過程中還可以起到自潤滑減摩作用，從而減輕復合鍍層磨損程度。

關鍵詞：TC4鈦合金；Co-W/MoS2復合鍍層；MoS2顆粒濃度；磨損率；磨痕形貌

鈦合金的強度和硬度高，耐腐蝕和耐高低溫性能優(yōu)異，但缺點是耐磨性能差，對微動磨損非常敏感，表面容易形成麻面等缺陷。為此，改善鈦合金的摩擦磨損性能具有重要意義。研究表明，采用微弧氧化、電沉積、真空滲氮、等離子噴涂等工藝制備功能性涂層，是改善鈦合金摩擦磨損性能的有效途徑。其中，電沉積具有設備簡單、易于操作、能耗低等優(yōu)點，鍍層結晶細致、厚度可控性好且性能優(yōu)良，對于改善鈦合金的摩擦磨損性能具有良好效果。

近些年，在鈦合金表面電沉積耐磨或減摩鍍層引起了研究人員的關注。汪建琦等在鈦合金表面電沉積Ni-SiC復合鍍層，摩擦磨損測試表明：該復合鍍層能有效提高Ni-SiC復合鍍層的耐磨性能。高鑫在鈦合金表面電沉積Ni-cBN復合鍍層，研究表明：采用最佳工藝參數(shù)制備的Ni-cBN復合鍍層具有優(yōu)異的耐磨性能。李軒等在鈦合金表面電沉積Ni-SiC-Y2O3復合鍍層，研究表明：該復合鍍層在常溫和高溫下對鈦合金均具有一定的減摩作用。沈志超等在鈦合金表面電沉積純銅鍍層，摩擦磨損測試表明：純銅鍍層通過減摩作用明顯的改善鈦合金的摩擦磨損性能。

目前有關鈦合金表面電沉積耐磨或減摩鍍層的報道主要針對鎳基復合鍍層，鮮見在鈦合金表面電沉積鈷基耐磨或減摩鍍層的報道。實際上，鈷基鍍層也具有較好的摩擦磨損性能。本文以有效的改善TC4鈦合金的摩擦磨損性能為目標，在TC4鈦合金表面電沉積摻雜自潤滑MoS2顆粒的Co-W/MoS2復合鍍層。主要研究鍍液中添加的MoS2顆粒濃度對復合鍍層摩擦磨損性能的影響，旨在為改善TC4鈦合金的摩擦磨損性能提供可供選擇的途徑。

實驗材料與方法

1.1 實驗材料

裁切50 mm×24 mm×2 mm的TC4鈦合金試片作為實驗基材，其化學成分（元素質(zhì)量分數(shù)）為：Al 5.5%~6.8%、V 3.5%~4.5%、Fe 0.3%、C 0.1%、余量為Ti。試片預處理流程如下：機械拋光→堿液中化學除油→混合酸中活化→依次在無水乙醇、去離子水中超聲波清洗→冷風吹干。表1列出化學除油和活化工序的溶液成分和工藝參數(shù)。

表1 化學除油和活化工序的溶液成分和工藝參數(shù)

1.2 電沉積Co-W/MoS₂復合鍍層

在預處理后的TC4鈦合金試片表面電沉積Co-W/MoS2復合鍍層，陽極為鉑板，極間距為30 mm。鍍液主要成分為：硫酸鈷20 g/L、鎢酸鈉12 g/L、硫酸鈉18 g/L、檸檬酸鈉50 g/L、硼酸40 g/L。將盛放鍍液的容器置于超聲波水浴槽中，然后添加MoS2顆粒（粒徑約為30 nm、純度高于99.9%），通過超聲波振蕩方式實現(xiàn)MoS2顆粒在鍍液中較均勻分散和懸浮。實驗過程中，電流密度2 A/dm2及溫度（60±1） ℃保持不變，只改變鍍液中的MoS2顆粒質(zhì)量濃度（0.5~6 g/L）獲得5個試樣。

1.3 Co-W/MoS₂復合鍍層性能測試

1.3.1 物相結構

采用D8 Advance型X射線衍射儀獲得不同Co-W/MoS2復合鍍層的XRD譜，靶材為銅靶，電壓和電流分別設置40 kV、30 mA，掃描速度為4 °/min，步長為0.02 °，角度范圍20 °至90 °。將測試數(shù)據(jù)導入Jade軟件中分析不同Co-W/MoS2復合鍍層的物相結構。

1.3.2 結合強度

根據(jù)GB 5933—1986《輕工產(chǎn)品金屬鍍層的結合強度測試方法》，采用劃痕法定性評價不同Co-W/MoS2復合鍍層與鈦合金基體的結合強度。測試步驟如下：采用銳利的鋼刀在每個試樣表面劃4條垂直交錯的平行線圍成網(wǎng)格形區(qū)域，劃破鍍層觸及基體。借助顯微鏡觀察網(wǎng)格區(qū)域內(nèi)被分割的鍍層邊緣是否翹起或完全脫落。

1.3.3 微觀形貌及MoS₂顆粒質(zhì)量分數(shù)

采用EV018型掃描電鏡放大5000倍觀察不同Co-W/MoS2復合鍍層的微觀形貌，同時用X-max80型能譜儀進行成分分析，根據(jù)相對分子量關系估算復合鍍層中MoS2顆粒質(zhì)量分數(shù)。

1.3.4 摩擦磨損性能

在UMT-2型摩擦試驗機上進行干摩擦實驗，環(huán)境溫度為25 ℃，相對濕度為30%~40%，對磨件為直徑4 mm的鋼球，往復運動頻率為5 Hz，行程5 mm。法向載荷設置10 N，摩擦時間為420 s。實驗結束后清理磨屑，采用VHX-5000型3D顯微鏡觀察不同復合鍍層的磨痕形貌，然后用Micro Xam-800型三維輪廓儀測量不同Co-W/MoS2復合鍍層的磨痕長度和面積，并根據(jù)如下公式計算不同復合鍍層的磨損率K。

式中：V表示磨痕體積，單位為mm3；F表示法向載荷，單位為N；S表示磨痕長度，單位為mm。

結果與討論

2.1 Co-W/MoS₂復合鍍層的物相結構

圖1所示為不同Co-W/MoS2復合鍍層的XRD譜。由圖1可知，不同復合鍍層都具有晶態(tài)結構，呈現(xiàn)明顯的擇優(yōu)取向，主要沿（200）晶面生長，對應物相為fcc-Co（面心立方結構）。除此之外，不同復合鍍層中都含有Co3W相，是由于W固溶在Co晶格中形成。但都未出現(xiàn)MoS2相，可能由于復合鍍層中MoS2顆粒含量較低。對比發(fā)現(xiàn)，添加2.5 g/L MoS2顆粒制備的復合鍍層中還含有hcp-Co（密排六方結構），新物相出現(xiàn)表明Co晶格畸變，可能是MoS2顆粒參與共沉積摻雜在Co晶格間隙而引起。研究表明，晶格畸變會導致晶粒形態(tài)發(fā)生變化，進而影響鍍層性能。

圖1 不同Co-W/MoS2復合鍍層的XRD譜

2.2 Co-W/MoS₂復合鍍層的微觀形貌及MoS₂顆粒質(zhì)量分數(shù)

圖2 TC4鈦合金和不同Co-W/MoS2復合鍍層的微觀形貌

圖2所示為TC4鈦合金和不同Co-W/MoS2復合鍍層的微觀形貌。觀察發(fā)現(xiàn)，當鍍液中MoS2顆粒濃度為0.5~6.0 g/L時，電沉積制備的不同Co-W/MoS2復合鍍層都完全覆蓋鈦合金表面，無漏鍍區(qū)域，且不同復合鍍層表面都存在近似圓形的孔洞，孔洞是在電沉積過程中發(fā)生析氫副反應形成，不可避免。然而，晶粒形態(tài)和復合鍍層表面致密度有所不同，隨著鍍液中的MoS2顆粒濃度從0.5 g/L增加到2.5 g/L，晶粒由團簇胞狀變成長條狀與團簇胞狀共存，復合鍍層表面變得致密。當MoS2顆粒的質(zhì)量濃度為2.5 g/L時，可能是MoS2顆粒參與共沉積摻雜在Co晶格間隙引起晶格畸變，導致結晶位錯塞積使得晶粒形態(tài)發(fā)生變化。另外，MoS2顆粒被Co-W鍍層包覆還會影響結晶形核過程，可能趨向于瞬時成核，也有利于改善復合鍍層致密度。長條狀晶粒分布在胞狀晶粒表面，形成較平整致密的復合鍍層。但MoS2顆粒質(zhì)量濃度超過2.5 g/L時，晶粒都呈團簇胞狀，復合鍍層表面結晶缺陷增多，致密度降低。這是由于顆粒濃度過高時團聚效應加劇，導致參與共沉積被Co-W鍍層包覆以及摻雜在Co晶格間隙的顆粒很少，難以引起晶格畸變，起到的晶粒細化作用有限。另外，若團聚態(tài)顆粒被Co-W鍍層包覆，可能阻礙結晶形核過程，形成結晶缺陷的幾率升高，導致復合鍍層致密度降低。

圖3所示為不同Co-W/MoS2復合鍍層選區(qū)（圖2中各小圖虛線框區(qū)域）能譜分析結果。由圖3可知，不同復合鍍層都含有Co、W、Mo和S四種元素，其中Co和W元素來源于鍍液中的鈷鹽和鎢酸鹽，Mo和S元素來源于添加到鍍液中的MoS2顆粒。隨著鍍液中的MoS2顆粒濃度增加，Mo和S元素質(zhì)量分數(shù)都呈先升高后降低的趨勢，這表明參與共沉積被Co-W鍍層包覆的MoS2顆粒先增多后減少。根據(jù)Mo元素質(zhì)量分數(shù)以及相對分子量關系估算出復合鍍層中MoS2顆粒質(zhì)量分數(shù)如圖4所示，由圖4可知，當MoS2顆粒質(zhì)量濃度為2.5 g/L時，復合鍍層中MoS2顆粒質(zhì)量分數(shù)最高，接近3%。但當MoS2顆粒質(zhì)量濃度超過2.5 g/L，復合鍍層中MoS2顆粒質(zhì)量分數(shù)逐漸降低，印證了上述分析結果。由于MoS2顆粒質(zhì)量濃度過高時碰撞團聚效應加劇，導致參與共沉積被Co-W鍍層包覆的幾率降低，進入鍍層中的顆粒減少。

圖3 不同Co-W/MoS2復合鍍層選區(qū)能譜分析結果

圖4 不同Co-W/MoS2復合鍍層中MoS2顆粒質(zhì)量分數(shù)

2.3 Co-W/MoS₂復合鍍層的結合強度

圖5所示為不同Co-W/MoS2復合鍍層表面劃痕區(qū)域。觀察發(fā)現(xiàn)，劃痕邊緣毛刺很少，橫縱向垂直交錯的平行線圍成較規(guī)整的網(wǎng)格形區(qū)域。被分割的鍍層未出現(xiàn)翹起和脫落現(xiàn)象，表明不同Co-W/MoS2復合鍍層都與鈦合金基體結合緊密。較高的結合強度可以保證復合鍍層充分發(fā)揮減摩作用。

圖5 不同Co-W/MoS2復合鍍層表面劃痕區(qū)域

2.4 Co-W/MoS₂復合鍍層的摩擦磨損性能

2.4.1 摩擦系數(shù)分析

圖6所示為TC4鈦合金和不同Co-W/MoS2復合鍍層的摩擦系數(shù)變化曲線。觀察發(fā)現(xiàn)，隨著摩擦時間延長，鈦合金和不同復合鍍層的摩擦系數(shù)都呈現(xiàn)波動性增大然后趨于穩(wěn)定的趨勢。這是由于摩擦開始階段的阻力較小，隨著摩擦時間延長磨屑逐漸增多，起到一定的阻礙作用導致摩擦系數(shù)增大。但當摩擦副達到穩(wěn)定接觸狀態(tài)，摩擦系數(shù)隨之趨于穩(wěn)定。鈦合金的穩(wěn)定摩擦系數(shù)約為0.6，而不同復合鍍層的穩(wěn)定摩擦系數(shù)明顯減小，且隨著復合鍍層中MoS2顆粒含量不同呈現(xiàn)先減小后增大的趨勢。當鍍液中的MoS2顆粒濃度為2.5 g/L，復合鍍層中MoS2顆粒含量最高，對應最低的穩(wěn)定摩擦系數(shù)，僅為0.34。摩擦過程中，在擠壓作用下使得包覆在復合鍍層中的MoS2顆粒參與磨屑轉(zhuǎn)移到摩擦副接觸面，并在機械剪切力作用下發(fā)生分層斷裂，分散在接觸面形成固體潤滑膜，可以起到減摩作用，從而降低復合鍍層的摩擦系數(shù)。復合鍍層中MoS2顆粒含量越高，在摩擦過程中發(fā)生轉(zhuǎn)移和分層斷裂的顆粒自然越多，促使摩擦副接觸面形成較大面積固體潤滑膜，起到有效的減摩作用，從而使摩擦系數(shù)減小。另外，復合鍍層中MoS2顆粒含量升高還會引起晶格畸變導致晶粒形態(tài)變化，形成較平整致密的復合鍍層，抵抗塑性變形能力增強，也使得摩擦系數(shù)減小。但復合鍍層中MoS2顆粒含量較低時，摩擦過程中在擠壓和機械剪切力作用下發(fā)生分層斷裂并轉(zhuǎn)移到摩擦副接觸面的顆粒很少，起到的自潤滑減摩作用有限。另外，MoS2顆粒含量較低時形成的復合鍍層結晶缺陷多、致密度不佳，抵抗局部塑性變形能力較差，共同導致摩擦系數(shù)增大。

圖6 TC4鈦合金和不同Co-W/MoS2復合鍍層的摩擦系數(shù)變化曲線

2.4.2 磨痕形貌分析

圖7所示為TC4鈦合金和不同Co-W/MoS2復合鍍層的磨痕形貌。從圖7（a）看出，鈦合金表面形成的磨痕最寬，可觀察到犁溝和局部剝落等磨損特征，邊緣伴有磨屑堆積。這表明鈦合金表面磨損程度較嚴重，原因是鈦合金黏性大、耐磨性能較差，在摩擦過程中容易發(fā)生黏著磨損和磨粒磨損，同時在擠壓和犁削作用下形成犁溝，并伴隨著局部剝落現(xiàn)象。從圖7（b）~圖7（f）看出，隨著鍍液中的MoS2顆粒濃度從0.5 g/L增加到6.0 g/L，復合鍍層表面形成的磨痕寬度先減小后增加，這與復合鍍層中MoS2顆粒含量不同以及顆粒在摩擦過程中起到的自潤滑減摩作用存在差異有關。結合上述分析，包覆在復合鍍層中的MoS2顆粒在擠壓和機械剪切力作用下發(fā)生分層斷裂并轉(zhuǎn)移到摩擦副接觸面，形成固體潤滑膜起到自潤滑減摩作用，從而減輕復合鍍層的磨損程度。復合鍍層中MoS2顆粒含量越高，在摩擦過程中可以起到有效的自潤滑減摩作用，因此復合鍍層表面磨損程度較輕，表現(xiàn)為磨痕寬度減小。但復合鍍層中MoS2顆粒含量較低時，摩擦過程中只有少量顆粒發(fā)生分層斷裂并轉(zhuǎn)移到摩擦副接觸面，自潤滑減摩作用有限，導致復合鍍層的磨損程度加重，磨痕寬度增加。

圖7 TC4鈦合金和不同的Co-W/MoS2復合鍍層的磨痕形貌

2.4.3 磨損率分析

為進一步評價不同Co-W/MoS2復合鍍層的摩擦磨損性能，對磨損率進行分析。表2列出TC4鈦合金和不同Co-W/MoS2復合鍍層的磨痕特征參數(shù)。

表2 TC4鈦合金和不同Co-W/MoS2復合鍍層的磨痕特征參數(shù)

根據(jù)磨痕特征參數(shù)得到鈦合金的磨損率最高，達到了2.32×10-3 mm2/N，而不同復合鍍層的磨損率明顯降低，尤其當鍍液中MoS2的顆粒濃度為2.5 g/L時，復合鍍層的磨損率最低，僅為9.50×10-4 mm2/N，是鈦合金磨損率的1/20左右，這進一步證實該復合鍍層的耐磨性能最好。但是，當MoS2顆粒濃度超過2.5 g/L時，復合鍍層的磨損率反而增加，相應的從9.50×10-4 mm2/N增加到1.30×10-3 mm2/N，表明復合鍍層的磨損程度加重，與上述分析結果一致。

結論

（1）采用電沉積工藝在TC4鈦合金表面制備出摻雜自潤滑MoS2顆粒的Co-W/MoS2復合鍍層，鍍液中的MoS2顆粒質(zhì)量濃度對復合鍍層的物相結構、微觀形貌、成分及摩擦磨損性能都有一定影響，但是對復合鍍層與鈦合金基體的結合強度基本無影響。MoS2顆粒被Co-W鍍層包覆可能影響結晶形核過程，使復合鍍層趨向于瞬時成核，還會摻雜在Co晶格間隙引起晶格畸變，有利于形成較平整致密的復合鍍層，從而改善摩擦磨損性能。另外，包覆在復合鍍層中的MoS2顆粒在摩擦過程中容易分層斷裂并轉(zhuǎn)移到摩擦副接觸面，形成固體潤滑膜起到減摩作用，也使復合鍍層的抗磨損能力提高。

（2）添加2.5 g/L MoS2顆粒制備的復合鍍層晶粒形態(tài)明顯不同，長條狀與團簇胞狀晶粒共存，主要物相為fcc-Co、hcp-Co和Co3W。該復合鍍層較平整致密，所含MoS2顆粒質(zhì)量分數(shù)接近3%，抵抗塑性變形能力增強，穩(wěn)定狀態(tài)時摩擦系數(shù)僅為0.34，磨損率僅為9.50×10-4 mm2/N，表現(xiàn)出優(yōu)異的耐磨性能，能有效改善TC4鈦合金的摩擦磨損性能。

doi：10.3969/j.issn.1001-3849.2022.09.012

作者簡介：安娜（1990―），女，碩士，講師，主要研究方向：復合材料及制備工藝、表面工程等，email：Polytechnic_1990@163.com

*通信作者：花珂（1990―），男，博士，副教授，主要研究方向：航空航天高性能金屬結構材料、表面工程等，email：576420562@qq.com

基金項目：陜西省教育廳資助項目（21JK0706）

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